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貴金屬產品說明

隨著電子，半導體科學的發展，貴（gui）金屬以其優質的性能，應用越來越廣泛。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結，常壓燒結等工藝，可保證靶材摻雜比例準確，摻雜相單一，致密度高。中諾新材可提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發材料，價格與國內市場價格同步。并可對金鉑等貴（gui）金屬材料進行二次回收。中諾新材可提供的貴（gui）金屬材料有：高純金，高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產品純度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業。

高純鈧 Sc 99.99 蒸餾態

高純釔 Y 99.9 還原態

高純鑭 La 99.5-99.9 電解態 還原態

高純鐠 Pr 99.5 電解態

高純釹 Nd 99.5 電解態

高純釤 Sm 99.9 蒸餾態

高純銪 Yb 99.9 蒸餾態

高純釓 Gd 99.9 還原態

高純鋱 Tb 99.9-99.99 還原態 蒸餾態

高純鏑 Dy 99.9-99.95 還原態 蒸餾態

高純鈥 Ho 99.5-99.9 還原態 蒸餾態

高純鉺 Er 99.5-99.99 還原態 蒸餾態

高純銩 Tm 99.99 蒸餾態

高純鐿 Yb 99.95 蒸餾態

高純镥 Lu 99.9 還原態

濺射靶材：

φ50.8mm φ60mm

 φ80mm  φ101.6mm

其它尺寸圓靶、方靶可定制

顆粒塊狀：

1-10mm 30-50mm

桶裝工業級原料

棒材：

φ3-25mm，長度定制

中諾新材可提供的常規陶瓷靶材如下：

氧化鋁靶 Al2O3 99.99%

氧化鉿靶 HfO2 99.99%

氧化鎂靶 MgO 99.99%

氧化硅靶 SiO2 99.999%

氧化鉭靶 Ta2O5 99.99%

氧化鈦靶 TiO2 99.99%

氧化鋅靶 ZnO 99.99%

氟化鎂靶 MgF 99.99%

硫化鋅靶 ZnS 99.99%

氮化鈦靶 TiN 99.9%

氮化鋁靶 AlN 99.9%

氮化硼靶 BN 99.9%

碳化硅靶 SiC 99.9%

常備現貨的靶材尺寸：

φ80mm,

φ100mm φ101.6mm

陶瓷靶材質脆，受熱不均易碎，推薦綁定銅背靶，以增強靶材導熱性能，提供靶材利用率