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經過嚴格的粒徑控制和專業的加工工藝。

經過嚴格的粒徑控制和專業的加工工藝。

該產品拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。

產品特點：

1.懸浮 分散性好、

2.粒徑分布廣泛：30-120nm。

3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb)，有效減小對電子類產品的沾污。

4.經特殊工藝合成的化學機械拋光液，納米顆粒呈球形，單分散，大小均勻，粒徑分布窄，可獲得高質量的拋光精度。

5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

6.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制(30-120 nm)

拋光過程中具有：

1.高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。（可以生產120 nm）。

2.高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工。

拋光過程后具有：

1.精度可以達到埃級

2.劃傷和挖傷可以達到0/0

產品參數

使用方法：

1.可根據拋光操作條件用去離子水進行1：1倍稀釋。

2循環拋光可以用原液。

儲存方法：

1.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結冰，在零度以下因產生不可再分散結塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

價格實惠：

克思曼的生產技術，是引進國外生產技術，其品質可以媲美進口的產品,但克思曼產品價格比進口便宜，有效的避免了進口產品其交貨周期長，價格昂貴。