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無機光刻膠公司-透明光刻膠品牌-Futurrex
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光刻膠工藝
普通的光刻膠在成像過程中,由于存在一定的衍射、反射和散射,降低了光刻膠圖形的對比度,從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小,入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統分辨率的性能,Futurrex 的光刻膠正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。該技術的引入,可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射,從而改善光刻膠的分辨率性能,但由此將引起工藝復雜性和光刻成本的增加。
光刻膠簡介
賽米萊德——專業光刻膠供應商,我們為您帶來以下信息。
光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一,特別是近年來大規模和超大規模集成電路的發展,更是大大促進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工業的,以后才用于電子工業。 [1] 光刻膠是一種有機化合物,它被紫外光曝光后,在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面,而后被干燥成膠膜。
為什么現在還有人使用負性膠
劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在曝光之后,被浸入顯影溶液中。在顯影過程中,正性光刻膠曝過光的區域溶解得要快得多。理想情況下,未曝光的區域保持不變。負性光刻膠正好相反,在顯影劑中未曝光的區域將溶解,而曝光的區域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的,因此在IC制造中的應用更為普及,但MEMS系統中,由于加工要求相對較低,光刻膠需求量大,負性膠仍有應用市場。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話?。。?