近紅外光刻膠公司 無機光刻膠公司 Futurrex
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近紅外光刻膠公司-無機光刻膠公司-Futurrex

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商品參數
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商品介紹
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運輸方式 貨運及物流
可售賣地 全國
耐溫 150度
聚焦補償 -15μm
掩模尺寸 12μm
膜厚 54μm
縱橫比 4.5
光刻膠型號 NR5-8000
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準
產品編號 14175972
商品介紹
北京賽米萊德貿易有限公司主營:光刻膠




政策扶持

為促進我國光刻膠產業的發展,國家02重大專項給予了大力支持。今年5月,02重大專項實施管理辦公室組織任務驗收組、財務驗收組通過了“極紫外光刻膠材料與實驗室檢測技術研究”項目的任務驗收和財務驗收。

據悉,經過項目組全體成員的努力攻關,完成了EUV光刻膠關鍵材料的設計、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實驗室光刻膠性能的初步評價裝備的研發,達到了任務書中規定的材料和裝備的考核指標。項目共申請發明15項(包括國際5項),截止到目前,共獲得授權10項(包括國際授權3項)。


NR77-25000P光刻膠
表征光刻膠特性和性能、質量的參數有以下三個:
(1)光學性質。光刻膠的光學性質包括光敏度和折射率。
(2)力學特性和化學特性。光刻膠的力學特性和化學特性包括膠的固溶度、黏滯度、黏著度、抗蝕(刻蝕、腐蝕)性、熱穩定性、流動性和對環境氣氛(如氧氣)的敏感度。
(3)其他特性。光刻膠的其他特性包括膠的純度、膠內的金屬含量、膠的可應用范圍、膠的儲存有效期和膠的燃點。

光刻膠分類介紹

以下內容由賽米萊德為您提供,今天我們來分享光刻膠的相關內容,希望對同行業的朋友有所幫助!

根據化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經曝光后變成可溶的為正性膠。  從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。

光刻膠產品種類多、專用性強,是典型的技術密集型行業。不同用途的光刻膠曝光光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等性能要求不同,導致對于材料的溶解性、耐蝕刻性、耐熱性等要求不同。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊,要求使用不同品質等級的光刻膠專用化學品。



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地址 北京市大興區