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Futurrex-低溫光刻膠-光阻光刻膠
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全球市場
目前,光刻膠單一產品市場規模與海外巨頭公司營收規模相比較小,光刻膠僅為大型材料廠商的子業務。但由于光刻膠技術門檻高,就某一光刻膠子行業而言,僅有少數幾家供應商有產品供應。
由于光刻膠產品技術要求較高,中國光刻膠市場基本由外資企業占據,國內企業市場份額不足40%,高分辨率的KrF和ArF光刻膠,其核心技術基本被日本和美國企業所壟斷,產品也基本出自日本和美國公司,包括陶氏化學、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業、Fujifilm,以及韓國東進等企業。
而細化到半導體用光刻膠市場,國內企業份額不足30%,與國際水平存在較大差距。超過80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中,國內公司中,蘇州瑞紅與北京科華實現了部分品種的國產化,但是整體技術水平較低,僅能進入8英寸集成電路生產線與LED等產線。
光刻膠趨勢
半導體光刻膠領域全球市場規模趨于穩定, 2017年全球市場約13.5億美元;國內市場約20.2億元,近5年復合增速達12%。受全球半導體市場復蘇和國內承接產業轉移,預計全球光刻膠市場將保持穩定增速,國內市占率穩步抬升。
光刻膠生產、檢測、評價的設備價格昂貴,需要一定前期資本投入;光刻膠企業通常運營成本較高,下游廠商認證采購時間較長,為在設備、研發和技術服務上取得競爭優勢,需要足夠的中后期資金支持。企業持續發展也需投入較大的資金,光刻膠行業在資金上存在較高的壁壘,國外光刻膠廠商相對于國內廠商,其公司規模更大,具有資金和技術優勢。
總體上,光刻膠行業得到國家層面上的政策支持。《國家集成電路產業發展推進綱要》,提出“研發光刻機、刻蝕機、離子注入機等關鍵設備,開發光刻膠、大尺英寸硅片等關鍵材料”;國家重點支持的高新技術領域(2015)中提到“高分辨率光刻膠及配套化學品作為精細化學品重要組成部分,是重點發展的新材料技術”;光刻技術(包括光刻膠)是《中國制造 2025》重點領域。
光刻膠分類概述
賽米萊德專業生產、銷售光刻膠,以下信息由賽米萊德為您提供。
基于感光樹脂的化學結構,光刻膠可以分為三種類型。
①光聚合型,采用烯類單體,在光作用下生成自由基,自由基再進一步引發單體聚合,然后生成聚合物,具有形成正像的特點。
②光分解型,采用含有疊氮醌類化合物的材料,經光照后,會發生光分解反應,由油溶性變為水溶性,可以制成正性膠。
③光交聯型,采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料,在光的作用下,其分子中的雙鍵被打開,并使鏈與鏈之間發生交聯,形成一種不溶性的網狀結構,而起到抗蝕作用,這是一種典型的負性光刻膠。