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標定掩膜板-高精密0.03毫米-0.1毫米科研用掩膜板定制加工
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發貨地 北京市
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材質 不銹鋼、鎳、鉬
材質厚度 0.05-3mm
加工精度 ±20um
加工面積 300*300mm
服務區域 全國不銹鋼、鎳、鉬
商品介紹
標定掩膜板 高精密0.03毫米-0.1毫米科研用掩膜板定制加工
主營產品掩膜板,掩膜夾具,金屬mask,蒸鍍罩,壓縮機閥片,精密光柵,,墊片墊圈,鉬片,不銹鋼狹縫,熱熔膠噴片,光電編碼器,精密金屬片、無連接點LOGO、無連接點精密墊片、精密喇叭網、打印機電、金屬碼盤、貼膜墊片、貼膜鋼片、貼膜不銹鋼片、掩模板、光柵片、過濾網、防塵網、鋁材工藝品、不銹鋼工藝品、精密彈片、打印機配件、引線框架、銀行柜員機配件等激光精密切割產品生產及銷售。
專注于生產精密五金、IT產品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產品的加工，公司產品取得了客戶的一致認可, 如:聯想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。
掩膜板特定產品材料材質:SUS304不銹鋼，SUS316不銹鋼，銅，合金等材料厚度(公制):0.1mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm,0.25mm,0.3mm，0.4mm.等此款產品用途:掩膜板主要用于學校、科研所實驗。
此款產品特點:掩膜板孔線條均均，剌，無缺口，不會出現大小孔的現像，針對精密激光精密切割網產品，我們有的技術攻關團隊，可以很好的幫助客戶解決相應問題。產品價格評估:以材料材質、產品要求的材料厚度、孔徑管控的精度要求，以及量產數量綜合評估。
理想的方式是提供工程圖給到我們，簡潔明了，可以及時回復相關評估。提供圖紙的同時，如果能提供大概用月用量或每批次的用量，相對來說，評估的價格更準確，也更合理。我們激光精密切割加工能力:可以使用自動激光精密切割設備，大批量生產，每天生產高達500平方米，
針對小批量多樣化的產品，也可以半自動化的方式投產，節省相關作業成本，是大限度為客戶節省成本是我們的終目標，實現雙贏!
華諾激光在北京 天津均有辦公地點
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