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標定掩膜板-濺射叉指掩膜版生產加工
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發貨地 北京市
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材質 不銹鋼、鎳、鉬
材質厚度 0.05-3mm
加工精度 ±20um
加工面積 300*300mm
服務區域 全國不銹鋼、鎳、鉬
商品介紹
標定掩膜板 濺射叉指掩膜版生產加工
金屬MASK的精密度：0.001MM至0.08MM，誤差正負0.001MM，小線寬0.025mm
華諾恒宇公司 可做的金屬MASK厚度有以下幾種：0.01,0.025,0.03,0.038,0.04,0.05,0.075,0.08,0.1,0.25,0.3,0.5,0.75,0.1,1.5mm
主營產品
精密金屬片、無連接點LOGO、無連接點精密墊片、精密喇叭網、打印機電、金屬碼盤、貼膜墊片、貼膜鋼片、貼膜不銹鋼片、掩模板、光柵片、過濾網、防塵網、鋁材工藝品、不銹鋼工藝品、精密彈片、打印機配件、引線框架、銀行柜員機配件等激光精密切割產品生產及銷售
專注于生產精密五金、IT產品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產品的加工，公司產品取得了客戶的一致認可, 如:聯想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
光學掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結構。掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構成。其圖形結構可通過制版工藝加工獲得，常用加工設備為直寫式光刻設備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。
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