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鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。

簡單地說，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

目前，(純度)濺射靶材按照化學成分不同可分為：

1）金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)

2）合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合等)

3）陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。

按開關不同可分為:長靶、方靶、圓靶。

按應用領域不同可分為：半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。