京邁研2305 金屬Cu銅靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2305 金屬Cu銅靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2305 金屬Cu銅靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2305 金屬Cu銅靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料

京邁研2305-金屬Cu銅靶材-磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發料

價格

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發貨地 北京市通州區
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商品參數
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商品介紹
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聯系方式
品牌 京邁研
型號 2305
規格 聯系客服定制
純度 99.99
用途 磁控濺射鍍膜
化學式 Cu
是否危險化學品
是否支持定制
金屬類型 金屬銅
包裝方式 真空包裝
商品介紹

京邁研2305   金屬Cu銅靶材  磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料 

【參數說明】

支持靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例  重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!! 

【產品介紹】

  Cuprum)是一種金屬元素,也是一種過渡元素,化學符號Cu,英文copper,原子序數29。純銅是柔軟的金屬,表面剛切開時為紅橙色帶金屬光澤,單質呈紫紅色。延展性好,導熱性和導電性高,因此在電纜和電氣、電子元件是最常用的材料,也可用作建筑材料,可以組成眾多種合金。銅合金機械性能優異,電阻率很低,其中最重要的數青銅和黃銅。此外,銅也是耐用的金屬,可以多次回收而無損其機械性能。

中文名

熔點

1357.77K(1083.4℃)

化學式

Cu

沸點

2868K(2567℃)

相對原子質量

63.55

密度

8.96g/㎝3(固態)

 

【關于我們】

服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂!

產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 

質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。 

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。


聯系方式
公司名稱 京邁研靶材小店
聯系賣家 楊杏林 (QQ:3462758834)
電話 䀍䀋䀍-䀒䀌䀑䀍䀒䀑䀍䀍
手機 䀋䀔䀋䀐䀐䀎䀑䀐䀍䀏䀓
地址 北京市通州區
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