京邁研2311 金屬Bi鉍靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2311 金屬Bi鉍靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2311 金屬Bi鉍靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料
京邁研2311 金屬Bi鉍靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料

京邁研2311-金屬Bi鉍靶材-磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發料

價格

訂貨量(件)

¥400.00

≥1

¥300.00

≥100

聯系人 楊杏林 客服

掃一掃添加商家

憩憤憩憭憭憨憬憭憧憪憥

發貨地 北京市通州區
進入商鋪
掃碼查看

掃碼查看

手機掃碼 快速查看

在線客服

商品參數
|
商品介紹
|
聯系方式
品牌 京邁研
型號 2311
金屬類型 金屬鉍
化學式 Bi
規格 聯系客服定制
純度 99.99
產地 北京
包裝 真空包裝
是否是危險化學品
用途 磁控濺射鍍膜
商品介紹

京邁研2311  金屬Bi靶材  磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發料 

【參數說明】

支持靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例  重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!! 

【產品介紹】

鉍為銀白色至粉紅色的金屬,質脆易粉碎,鉍的化學性質較穩定。鉍在自然界中以游離金屬和礦物的形式存在。以前鉍被認為是相對原子質量最大的穩定元素,但在2003年,發現了鉍有極其微弱的放射性

中文名

熔點

271.3℃

化學式

Bi

沸點

1560±5℃

原子量

208.98038

 

 

 

【關于我們】

服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂!

產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/產品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備 

質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。 

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質脆且導熱性差,連續長時間濺射易發生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

 :高純銦的熔點約為156℃,靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。


聯系方式
公司名稱 京邁研靶材小店
聯系賣家 楊杏林 (QQ:3462758834)
電話 憧憩憧-憦憫憬憧憦憬憧憧
手機 憩憤憩憭憭憨憬憭憧憪憥
地址 北京市通州區
聯系二維碼