京邁研2331 金屬Ta鉭靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料
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京邁研2331 金屬Ta鉭靶材 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料
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京邁研2331-金屬Ta鉭靶材-磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發(fā)料

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商品參數(shù)
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商品介紹
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品牌 京邁研
型號 2331
金屬類型 金屬鉭
化學(xué)式 Ta
規(guī)格 聯(lián)系客服定制
純度 99.99
產(chǎn)地 北京
包裝 真空包裝
是否是危險(xiǎn)化學(xué)品
用途 磁控濺射鍍膜
商品介紹

京邁研2331  金屬Ta鉭靶材  磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料 

【參數(shù)說明】

支持靶材定制,請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例  重量比或原子比)、規(guī)格,我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)!! 

【產(chǎn)品介紹】

鉭,金屬元素,主要存在于鉭鐵礦中,同共生。鉭的硬度適中 ,富有延展性,可以拉成細(xì)絲式制薄箔。其熱膨脹系數(shù)很小。鉭有非常出色的化學(xué)性質(zhì),具有極高的抗腐蝕性。雖然鉭的抗腐蝕性很強(qiáng),但是其抗腐蝕性是由于表面生成穩(wěn)定的五氧化二鉭(Ta2O5)保護(hù)膜。無論是在冷和熱的條件下,對鹽酸、濃硝酸"王水"都不反應(yīng)。可用來制造蒸發(fā)器皿等,也可做電子管的電極、整流器、電解電容。醫(yī)療上用來制成薄片或細(xì)線,縫補(bǔ)破壞的組織。

中文名

熔點(diǎn)

2996°C

化學(xué)式

Ta

沸點(diǎn)

5425°C

相對原子質(zhì)量

180.9479

密度

16.654 g/cm3

 

【關(guān)于我們】

服務(wù)項(xiàng)目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質(zhì)量保證,售后無憂!

產(chǎn)品附件:發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 

質(zhì)量控制:嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度;可提供質(zhì)檢報(bào)告。 

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,連續(xù)長時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您,選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!

我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無氧銅作為背靶。

 :高純銦的熔點(diǎn)約為156℃,靶材工作溫度超過熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!

建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。


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公司名稱 京邁研靶材小店
聯(lián)系賣家 楊杏林 (QQ:3462758834)
電話 尋専尋-專将尃尋專尃尋尋
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地址 北京市通州區(qū)
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