鋼研納克檢測技術股份有限公司
鋼研納克ICP光譜儀-Plasma1000-單道掃描
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應用領域
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀可用于地質、冶金、稀土及磁材料、環境、醫藥衛生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工業、農業、食品商檢、水質等各領域及學科的樣品分析。可以快速、準確地檢測從微量到常量約70種元素。
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩定度:0.1%(長期25℃典型值)
7. 震蕩類型:自激式
8. 進樣方式:蠕動泵進樣 配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫氟酸霧室)
9. 霧化器:同心霧化器
10. 重復性:RSD ≤1.0%
11. 穩定性:RSD ≤2.0%(2小時)
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)
16. 重量:240公斤
Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點:
1. 分析流程全自動化控制,實現軟件點火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動匹配調諧,功率參數程序設定;
3. 優良的光學系統,先進的控制系統,保證峰位定位準確,信背比優良;
4. 極小的基體效應;
5. 測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態線性范圍5—6個數量級;
6. 檢出限低,大多數元素的檢出限可達ppb級;
7. 良好的測量精度,穩定性相對標準偏差RSD≤1.5%(5ppm),優于國家A級標準(JJG768-2005);
8. Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負高壓可在0-1000V范圍內獨立可調,可根據不同元素的不同譜線單獨設置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 高精度的光室恒溫系統,保證儀器優良的長短期精度;
12. 多通道蠕動泵進樣,保證儀器進樣均勻,工作穩定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進行數據處理,方法編制和結果分析,是真正的多任務工作軟件;該軟件數據處理功能強大,提供了多種方法,如內標校正、IECS和QC監測功能等,可獲得合適的背景扣除點以消除干擾;對輸出數據可直接打印或自動生成Excel格式的結果報告。