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鋼研納克檢測技術股份有限公司
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電感耦合等離子體質譜測樣
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發貨地 北京市
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商品參數
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商品介紹
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聯系方式
測試范圍 2-255amu
功率 600-1600W連續可調
測量精度 0.5-1.1amu連續可調
型號 PlasmaMS 300
矩管材質 石英
生產廠家 鋼研納克
商品介紹
PlasmaMS 300型質譜儀將ICP的高溫電離特性與四極桿質譜計的靈敏快速掃描的優點相結合而形成一種新型的有力的元素分析、同位素分析和形態分析技術。該技術具有檢出限低、動態線性范圍寬、干擾少、分析精度高、速度快、可進行多元素同時測定等優異的分析性能,已從初在地質科學研究的應用迅速發展到環境保護、半導體、生物、醫學、冶金、石油、核材料分析等領域。
PLASMAMS 300 在不同行業的應用與干擾
地質樣品通常難以消解。相比之下,激光消融幾乎不需要任何樣品制備,僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領域中,樣品多種多樣,質譜分布范圍很廣,因此此類應用為廣泛和復雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中,可能既需要分析痕量金屬含量,又需要進行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements),因此在這類地質樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應用領域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質的原始和進化 水沉積物和地下水
PlasmaMS 300在環境領域的應用
在環境應用領域(監控環境中微量和有毒元素)中,PLASMAMS 300是近年來增長快的應用技術 手段。 該應用的關鍵是:根據相關法規,必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環境物質中的一 系列元素進行檢測,并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環境行業應用中,的挑戰是:用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下,是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術近幾年在環境樣品分析中運用很多。具體方法就是:將iCAP Q與可以分離目 標元素氧化物的附件(一般為色譜,例如LC或GC)偶聯。
應用領域:
自來水檢測和水污染監測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環境污染物中同位素識別和定量
ICP-MS的標準加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學干擾導致的。 使用標準加入法時: 1.首先將少量已知量的分析物添加到預制的分析樣品中;
2.然后對這些包含了標準加入物的樣品進行再測定,并繪制出濃度曲線;
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度,
4.該曲線的實驗空白(即未加標樣品)CPS(即 Y 軸上的截距),即為樣品中分析物的 CPS;
5.標準加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標準加入法避免了配置標準曲線,相當于進行了完全的基體匹配。
7.后續樣品如果基體和該加標樣完全一致,則相當于該方法也為后續未知樣品提供了基體 匹配,該加標曲線可以直接用于后續樣品的全定量測定。
基體效應以外的干擾并不能通過標準加入法消除,但是可以通過空白扣減來消除,前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。
PLASMAMS 300 在不同行業的應用與干擾
地質樣品通常難以消解。相比之下,激光消融幾乎不需要任何樣品制備,僅僅 需要將樣品切至適合激光消融池的大小。
在這一領域中,樣品多種多樣,質譜分布范圍很廣,因此此類應用為廣泛和復雜。在單 個礦物或樣品(minerals or phases)中,可能既需要分析痕量金屬含量,又需要進行同位 素信息掃描。
由于在這類樣品中存在著大量的稀土元素(rare earth elements),因此在這類地質樣品中 常見的干擾就是氧化物干擾和雙電荷干擾。
應用領域:
巖石稀土分析和巖石消解 激光消融分析礦物
同位素比例研究地球及外來物質的原始和進化 水沉積物和地下水
PlasmaMS 300在環境領域的應用
在環境應用領域(監控環境中微量和有毒元素)中,PLASMAMS 300是近年來增長快的應用技術 手段。 該應用的關鍵是:根據相關法規,必須對水、土壤、淤泥以及其他重要的環境物質中的一 系列元素進行檢測,并且這些元素含量都在接近ppb級別。
在環境行業應用中,的挑戰是:用同樣的分析方法來分析不同基體的樣品。在這種情 況下,是在用PLASMAMS 300檢測之前對樣品基體進行分離。
分離技術近幾年在環境樣品分析中運用很多。具體方法就是:將iCAP Q與可以分離目 標元素氧化物的附件(一般為色譜,例如LC或GC)偶聯。
應用領域:
自來水檢測和水污染監測 廢水中有毒元素和低水平錒系元素測定
環境污染物中同位素識別和定量
ICP-MS的標準加入法
基體抑制是由基體帶來的物理干擾或化學干擾導致的。 使用標準加入法時: 1.首先將少量已知量的分析物添加到預制的分析樣品中;
2.然后對這些包含了標準加入物的樣品進行再測定,并繪制出濃度曲線;
3.該曲線在濃度軸(X 軸)上的截距即為樣品中分析物的濃度,
4.該曲線的實驗空白(即未加標樣品)CPS(即 Y 軸上的截距),即為樣品中分析物的 CPS;
5.標準加入法得到的圖形斜率即為該基體中樣品的分析靈敏度。
6.標準加入法避免了配置標準曲線,相當于進行了完全的基體匹配。
7.后續樣品如果基體和該加標樣完全一致,則相當于該方法也為后續未知樣品提供了基體 匹配,該加標曲線可以直接用于后續樣品的全定量測定。
基體效應以外的干擾并不能通過標準加入法消除,但是可以通過空白扣減來消除,前提是 用來扣減的空白溶液中和樣品中含有的干擾水平是一致的。
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公司名稱 鋼研納克檢測技術股份有限公司
聯系賣家 文先生 (QQ:415905311)
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