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此產品廣泛應用于真空鍍膜行業，多弧離子鍍膜設備，應用于各種膜層的鍍制，銀色，金色，玫瑰金，黑鈦，玫瑰紅，七彩色等
1.應用領域
產品廣泛應用于真空制鹽，精細化工，石油化工，制藥，氯堿工業，電鍍，電解，航空
航天，海水淡化等行業。
2、加工工藝
鍛造、軋制
3、表面
車光、倒角。表面清潔光滑，無起皮，氣孔，裂紋等缺陷。
4、規格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40較常見，其他規格可按客戶
要求制作。
5、執行標準
國標：GB/T 16598，GB/T2965 。
美標：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
6、檢測
破壞性檢測：物理性能測試，硬度測試，化學成分測試。
無損檢測：超聲檢測，滲透檢測，外觀檢測。
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材為多晶結構，晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材，晶粒細小的靶的濺射速
率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分
布更均勻。

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形
成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光
武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同
的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、
銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等

專業生產銷售各種金屬靶材：鈦靶、鉻靶、鋯靶、鎳靶、鋁靶、銅靶、鎢靶、鉬靶、鉭靶、鈮靶
、鈦鋁靶、鈦鈮靶、鈦鋯靶、鎳鉻靶及各種比例的合金靶材、大口徑圓柱靶、平面靶、鎢鉬舟、
坩堝、蒸發鍍顆粒等.
歡迎廣大新老客戶的來電咨詢洽談。