雙層光刻膠 Futurrex 光阻光刻膠廠 雙層光刻膠供應(yīng)商
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縱橫比 4.5
報(bào)價(jià)方式 按實(shí)際訂單報(bào)價(jià)為準(zhǔn)
光刻膠型號 NR5-8000
膜厚 54μm
掩模尺寸 12μm
曝光能量 1100 mJ/cm22
聚焦補(bǔ)償 -15μm
耐溫 150度
產(chǎn)品編號 10968499
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




光刻膠簡介

賽米萊德——專業(yè)光刻膠供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一,特別是近年來大規(guī)模和超大規(guī)模集成電路的發(fā)展,更是大大促進(jìn)了光刻膠的研究開發(fā)和應(yīng)用。印刷工業(yè)是光刻膠應(yīng)用的另一重要領(lǐng)域。1954 年由明斯克等人首先研究成功的就是用于印刷工業(yè)的,以后才用于電子工業(yè)。 [1]  光刻膠是一種有機(jī)化合物,它被紫外光曝光后,在顯影溶液中的溶解度會發(fā)生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面,而后被干燥成膠膜。



負(fù)性光刻膠原理

又稱光致抗蝕劑,是一種由感光樹脂、增感劑(見光譜增料)和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

原理

光刻膠在接受一定波長的光或者射線時(shí),會相應(yīng)的發(fā)生一種光化學(xué)反應(yīng)或者激勵作用。光化學(xué)反應(yīng)中的光吸收是在化學(xué)鍵合中起作用的處于原子外層的電子由基態(tài)轉(zhuǎn)入激勵態(tài)時(shí)引起的。對于有機(jī)物,基態(tài)與激勵態(tài)的能量差為3~6eV,相當(dāng)于該能量差的光(即波長為0.2~0.4μm的光)被有機(jī)物強(qiáng)烈吸收,使在化學(xué)鍵合中起作用的電子轉(zhuǎn)入激勵態(tài)。化學(xué)鍵合在受到這種激勵時(shí),或者分離或者改變鍵合對象,發(fā)生化學(xué)變化。電子束、X射線及離子束(即被加速的粒子)注入物質(zhì)后,因與物質(zhì)具有的電子相互作用,能量逐漸消失。電子束失去的能量轉(zhuǎn)移到物質(zhì)的電子中,因此生成激勵狀態(tài)的電子或二次電子或離子。這些電子或離子均可誘發(fā)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)。


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光刻膠

在曝光過程中,正性膠通過感光化學(xué)反應(yīng),切斷樹脂聚合體主鏈和從鏈之間的聯(lián)系,達(dá)到削弱聚合體的目的,所以曝光后的光刻膠在隨后顯影處理中溶解度升高。曝光后的光刻膠溶解速度幾乎是未曝光的光刻膠溶解速度的10倍。而負(fù)性膠,在感光反應(yīng)過程中主鏈的隨機(jī)十字鏈接更為緊密,并且從鏈下墜物增長,所以聚合體的溶解度降低。見正性膠在曝光區(qū)間顯影,負(fù)性膠則相反。負(fù)性膠由于曝光區(qū)間得到保留,漫射形成的輪廓使顯影后的圖像為上寬下窄的圖像,而正性膠相反,為下寬上窄的圖像。

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